Fertigungstechnik für Mikrochips mit Zukunftspreis gewürdigt

Peter Kürz von der Zeiss Halbleitersparte gewinnt den Deutschen Zukunftspreis

Mit dem Deutschen Zukunftspreis des Bundespräsidenten wurde in diesem Jahr eine Fertigungstechnik für leistungsfähige Mikrochips gewürdigt, die etwa in Smartphones stecken können. Die Jury würdigte damit Dr. Peter Kürz von Zeiss, Dr. Michael Kösters von Trumpf Lasersystems for Semiconductor Manufacturing und Dr. Sergiy Yulin vom Fraunhofer Institut für Angewandte Optik und Feinmechanik IOF in Jena für ihren Beitrag zur Entwicklung und industriellen Serienreife der EUV-Lithographie. Dabei handelt es sich um Maschinen zur Chipherstellung mit den kleinsten heutzutage möglichen Strukturen mittels extrem ultraviolettem (EUV-) Licht.

Bundespräsident Frank-Walter Steinmeier hat in einer virtuellen Preisverleihung das Team EUV Lithographie mit dem Deutschen Zukunftspreis 2020 ausgezeichnet. Auch eine niederländische Firma war daran beteiligt. Dieser Erfolg zeigt, dass Deutschland und Europa gemeinsam technologische Souveränität erreichen können. "Parallel werben wir dafür, dass auch im nächsten Forschungsrahmenprogramm Horizont Europa eine starke europäische Forschungsinitiative zur Mikroelektronik eingerichtet wird".

Der "Deutsche Zukunftspreis - Preis des Bundespräsidenten für Technik und Innovation" ist mit 250.000 Euro dotiert und gilt als wichtigster Innovationspreis Deutschlands. Als eine der insgesamt 19 vorschlagsberechtigten Institutionen, reicht das BMBF alljährlich Vorschläge für den Preis ein. Neben der wissenschaftlichen Exzellenz sei auch ein klar erkennbarer Nutzen für die Gesellschaft, die Umwelt und für die Wirtschaft kennzeichnend für die Preisträger-Projekte. Entstanden ist ein optisches System aus Spiegeln mit einer besonderen Beschichtung. Dies steigert die Leistungsfähigkeit der Chips. Das macht die Mikrochips so leistungsfähig. Das Fertigungsverfahren für die neuesten Chip-Generationen fuße auf der Nutzung von EUV-Licht, heißt es.

20 Jahre Forschung haben das Jenaer Fraunhofer Institut, Zeiss und Trumpf in diese Innovation investiert. Ein CO2-Laser gibt dabei 50.000 Doppel-Impulse pro Sekunde auf einen hauchfeinen Strahl aus flüssigem Zinn ab: Der erste Schuss verformt das Zinn-Tröpfchen, damit es groß genug ist, um die volle Energie des zweiten Impulses aufzunehmen, der es in Plasma umwandelt. Sie produziert und liefert heute die weltweit einzigen Geräte für die EUV-Lithographie. Dank EUV wurden bei Zeiss und Trumpf nach eigenen Angaben bis heute mehr als 3300 Arbeitsplätze geschaffen und 2019 ein Jahresumsatz von mehr als einer Milliarde Euro erwirtschaftet - Tendenz steigend.

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